下降式晶體生長爐

技術規(guī)格書

一·設備用途：

主要用于LED半導體有力扭轉、太陽能等工業(yè)晶體的提純上高質量、制備。

二·設備特點：

本設備采用一體化設計廣度和深度，立式鐘罩式結構深入交流，爐膛材料采用優(yōu)質的氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50%，爐體采用雙層爐殼結構臺上與臺下，雙層爐殼之間裝有風機用的舒心，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低集聚效應，**整潔大方前來體驗。

三·主要技術參數

1.**使用溫度：1600℃

2.控溫區(qū)：兩區(qū)（一區(qū)高溫區(qū)，一區(qū)輔助加熱區(qū)）

3.功率：                          15Kw±10%單相

4.發(fā)熱材料：硅鉬棒（高溫區(qū)）電阻絲（輔助加熱區(qū)）

5.恒溫區(qū)間：200mm（高溫區(qū)）

6.爐膛內徑：120mm

7.測溫系統(tǒng)：                   熱電偶

8.控溫精度：                   ±1℃

9.坩堝升降：位移行程 300mm

慢速升降0.1-10mm/h（伺服控制）精度±0.01mm

          快速升降50-200mm/min（伺服控制）

坩堝旋轉：坩堝轉速 1~50RPM

四確定性、結構組成

1更加廣闊、爐體及爐體升降機構

2、坩堝升降旋轉系統(tǒng)

3講故事、變壓器及聯(lián)接電纜

4非常完善、 溫控系統(tǒng)

五、結構說明

1自動化方案、爐體及爐體升降系統(tǒng)：爐體殼體采用優(yōu)質冷軋鋼板雙層結構設計技術緊密協作，殼體顏色漆經過高溫烘烤而成越來越重要，經久耐用線上線下，爐膛采用高純氧化鋁多晶體纖維材料，分兩區(qū)***控溫醒悟，高溫區(qū)采用優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件數據顯示，輔助溫區(qū)采用優(yōu)質電阻絲為加熱元件，兩個溫區(qū)之間形成溫度梯度也逐步提升，從而保證晶體的正常生長記得牢，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速對溫控系統(tǒng)降溫重要的作用；該爐具有溫場均衡更多可能性、表面溫度低、升降溫度速率快足夠的實力、節(jié)能等優(yōu)點緊迫性。爐體整體做成一個圓筒的罩式結構，與固定在支架平臺上的爐底組成一個完整的爐膛更適合，爐體配有一升降系統(tǒng)高效，可是爐體**升降，方便裝卸料要素配置改革。

2體系、坩堝升降旋轉系統(tǒng)：坩堝升降采用伺服控制，位移精度可達0.01毫米帶動產業發展，控制精度高責任製，它是由一套線性模組和伺服電機，減速機組成，旋轉機構由旋轉電機減速機組成有序推進，升降和旋轉安裝在同***臺上創造性，組成一個完整的機構，安裝在爐底中心位置道路，從而帶動坩堝桿的升降與旋轉規模設備，坩堝桿的上部裝有一坩堝平臺，采用高溫陶瓷材料指導，經久耐用競爭力。

3、溫控系統(tǒng)：電爐的溫度控制采用可控硅功率控制器＋低電壓大電流變壓器進一步完善，可控硅功率控制器采用移相觸發(fā)方式來實現電壓的無級調節(jié)集聚，從而達到自動控制功率的目的。采用宇電50段溫控儀表調整推進，控溫精度高狀況，可根據需要設定多段升溫曲線，從而達到自動控制溫度的目的機製。功能強大全過程，操作方便，具有超溫探討，上線***聲光**功能不負眾望。控制柜面板上設有液晶觸模屏調解製度，可顯示精準調控、設定坩堝升降速度，旋轉速度應用的因素之一、位移等解決，直觀顯示系統(tǒng)各部件的工作狀態(tài)，并可實時顯示記錄工況爐內的溫度敢於監督》?？娠@示溫度、位移曲線更合理，記錄保存數據適應能力，數據也可以刪除、導出各方面。爐子的所有動作都有一臺PLC來完成防控，控制精確自動化程度高。

4善謀新篇、變壓器及聯(lián)接電纜：采用三相干式變壓器增產，聯(lián)接電纜采用銅排或軟電纜降低損耗便利性，環(huán)保節(jié)能。